製品説明
シリーズ（磁気浮上一体型コントロールユニットタイプ）TGkine
◆相互接続ケーブル/ケーブルダクトの必要はなく、ラックの設置も必要ありません。これにより、設置が簡単になり、システムコストを節約できます。
◆さまざまな真空プロセスに適した優れたバランス性能。
◆大気圧と直列に接続された補助ポンプを同時に始動できるため、初期ポンプのダウンタイムが短縮されます。
◆Eエッチングプロセスの特許取得済みの設計。
◆リアルタイムの可変速度制御（110 rps-450 rps）。
TGkine シリーズ · 磁気軸受式ターボ分子ポンプ (Magnetically Levitated Turbo Molecular Pump)
TGkine 1700M ~ 4200M
産業用高機能複合分子ポンプ
先進の複合型ターボ分子ポンプ技術を搭載し、優れた省スペース統合性、業界トップクラスの広レンジなガススループット、そして極めて安定した5軸制御磁気軸受システムを実現。過酷な半導体製造および先進薄膜プロセス向けに最適化されています。
性能指標概観 (Performance Overview)
TGkine システム構成（2タイプ）
主な技術的特長 (Key Technical Features)
-
コントローラ・電源の本体一体化構造
ポンプ本体にコントローラおよび電源ユニットを直接インテグレーション。煩雑な電源・通信ケーブル、配線ダクト、外部コントロールラックが一切不要となるため、装置内部の配線レイアウトを劇的に簡素化し、システム統合成本を最適化します。
-
優れた真空プロセス適応性とバランス性能
極めて広範な真空プロセス動作領域において、卓越した高効率パフォーマンスを発揮。先進的な複合型ローター翼構造を導入することで、最適化された排気特性曲線と安定した背圧特性を維持します。
-
大気壓からの同期高速スタートアップ対応
補助ポンプ（前段ポンプ）と連動し、大氣壓環境下から同時に起動・加速することが可能。システムの初期排気時間（ポンプダウンタイム）を大幅に短縮し、製造ラインのサイクルスループットを向上させます。
-
エッチングプロセス専用の特許構造設計
過酷な腐食性ガスを使用するエッチング（Etching）プロセス用に最適化された特許設計を採用。高効率な内部温度管理システム（TMS）や特殊な防食コーティングを配置し、反応副生成物の内部堆積や結晶化リスクを徹底的に排除します。
-
リアルタイムかつ動的な可変回転速度制御
運転中のリアルタイムな動的回転速度調整 (110 rps - 450 rps) に対応。プロセスエンジニアはチャンバー内の精密な微小環境圧力要求に応じて、最適な排気効率へ柔軟にチューニング可能です。
吸氣口フランジ規格標準 (Vacuum Interface)
自社開発・高性能5軸制御磁気軸受
大阪真空の高度な5軸アクティブ磁気浮上メカニズムを搭載。非接触走行により摩耗や摩擦が一切なく、現代の最先端半導体クリーンルームに不可欠な「100%ハイドロカーボンフリー」の極めて清浄な超高真空環境を保証します。
TGkine シリーズ製品型式選定・コード解読
TGkine [サイズ/定格] M [排気口] [吸気口規格] [冷却方式] [表面処理] [コントローラ仕様]
お客様の装置・プロセス仕様に最も適合する高真空コンポーネントの構築、または型式確認の際は以下の選型定義ブロックをご参照ください：
170: 1650 L/s (吸気口 200A 相當)
220: 2200 L/s (吸気口 250A 相當)
330 / 340: 3300 L/s (300A/350A)
380 / 420: 3600 / 4200 L/s 高真空・高大流量仕様
排氣口フランジ: 4 (KF40) / 5 (KF50)
吸気フランジ型式: B (ISO-B) / V (VG フランジ)
冷却システム仕様: W (水冷式) / A (空冷式強制空冷)
表面コーティング: B (標準型) / C (耐腐蝕プロセス対応型)
コントローラ搭載: B (本体一体型インテリジェント仕様)
コントローラ分離: R (分体マウント型遠隔制御仕様)
技術仕様マトリクス表 (Technical Specification Matrix)
| ポンプ型式名 / 主要テクニカルパラメーター | TGkine 1700M | TGkine 2200M | TGkine 3300M | TGkine 3400M | TGkine 3800M | TGkine 4200M |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 窒素排気速度 (Volume Flow Rate - N2) | 1650 L/s | 2200 L/s | 3300 L/s | 3300 L/s | 3600 L/s | 4200 L/s |
| 吸気口フランジ規格 (Inlet Flange) | ISO-B200 / VG200 | ISO-B250 / VG250 | ISO-B320 / VG300 | VG350 専用 | ISO-B320 / VG300 | VG350 専用 |
| 排気口フランジ規格 (Outlet Flange) | KF40 / KF50 | KF40 / KF50 | KF40 / KF50 | KF40 / KF50 | KF40 / KF50 | KF40 / KF50 |
| 圧縮比 (Compression Ratio - N2) | > 2 × 10⁸ | > 2 × 10⁸ | > 1 × 10⁸ | > 1 × 10⁸ | > 2 × 10⁸ | > 2 × 10⁸ |
| 最大窒素ガススループット (Max Throughput) | 4400 sccm | 4400 / 7000 sccm | 2100 / 2600 sccm | 2100 / 2600 sccm | 2800 sccm | 2800 sccm |
| 起動 / 停止所要時間 (Startup / Shutdown) | ≤ 10 分 | ≤ 10 分 | ≤ 11 / 13 分 | ≤ 11 / 13 分 | ≤ 12 / 14 分 | ≤ 12 / 14 分 |
| 入力電源・電圧仕様 (Input Voltage) | 単相 AC 200-240V | 単相 AC 200-240V | 単相 AC 200-240V | 単相 AC 200-240V | 単相 AC 200-240V | 単相 AC 200-240V |
| 本体取付方向 (Mounting Orientation) | 全方向取付対応 | 全方向取付対応 | 全方向取付対応 | 全方向取付対応 | 垂直取付限定 | 垂直取付限定 |
* 備考：上記最大ガススループットの実際の制限値は、お客様の配管構成および組み合わせる前段補助ポンプの排気容量に依存します（メーカー推奨：補助ポンプ実効排気速度 ≥ 2000 L/min）。
主な高真空ターゲットプロセス
テクニカルサポートと現地化修理拠点
九德松益 (Cutes Corp) は1998年より、株式会社大阪真空 (OSAKA VACUUM, LTD.) ターボ分子ポンプの台湾における正規総代理店および原廠公認修理サービス拠点として、台湾市場に深く根ざしてきました。
半世紀以上にわたり台湾の産業真空分野で培われた九德松益の強固な事業基盤と、世界的な信頼を誇る大阪真空の最先端磁気軸受技術が完璧に融合。お客様の製造装置に最適な高真空配管システムの精密な構築だけでなく、台湾国内に正規修理・オーバーホールセンターおよび専任の原廠エンジニアチームを常設しております。迅速かつ原廠規格に準拠した定期点検、予防保全（PM）、および交換部品のオンタイムな国内在庫サポート体制により、半導體ファブや高付加価値薄膜ラインの稼動率最大化にゼロディレイで貢献します。
EtherCAT を含む複数の産業用インテリジェント通信プロトコルに完全対応。ファブ内の中央制御システムとシームレスに接続可能です。
特許取得済みの防堆積高熱仕様設計。過酷なプロセスガスがポンプ内部で冷凝・結晶化するのを効果的に防止します。